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2020年光刻机产业市场规模及竞争格局分析

时间:2020-10-05 19:35:17 | 来源:中商产业研究院

中商情报网讯:随着光源、曝光方式不断改进,光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。第五代光刻机主要采用的是EUV光源,波长为13.5nm,制程节点仅为7-3nm。目前行业内使用最多的是第四代浸入式光刻机,最高制程可达7nm,在7nm之后芯片厂商必须使用最顶级的EUV光刻机。

资料来源:中商产业研究院整理

数据显示,2016-2018年,全球IC制造前道光刻机全球销量整体处于上升趋势,2018年全球出货量达到374台。2019年出货量略有下降,全年为359台。

数据来源:芯思想研究院、平安证券、中商产业研究院整理

从竞争格局来看,目前,全球光刻机市场的主要企业即ASML,尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家,从光刻机销售额来看,2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。

值得一提的是,荷兰ASML公司的主要产品为各级别的光刻机,2019年阿斯麦销售了229台光刻机,其中占比最大的是ArFi光刻机,且市场占比高达88%;其次是KrF光刻机,市场占比高达71%。值得注意的是,ASML公司的EUV光刻机的市场占比达到了100%,完全垄断了整个市场。

尼康:光刻机领域曾经的世界第一,后被ASML所超越。目前公司主要为中高端机型,包括ArF、KrF、KrF、i-line光源。在ASML之后才推出浸入式光刻机,但是已经落后于ASML。而佳能专注于低端产品,只有i-line和Kr-F光刻机,没有浸入式光刻机,现在佳能已逐渐减少在半导体光刻机领域的投资,转向面板光刻机领域。

数据来源:SEMI、中商产业研究院整理

从产品结构来看,2019年,全球EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line光刻机的出货量分别为26、93、35、103、102台。2019年ASML、尼康、佳能的光刻机出货量分别为229、46、84台,

数据来源:中商产业研究院整理

在国产光刻机领域中,上海微电子(SMEE)一枝独秀。其产品主要采用ArF、KrF和i-line光源,目前只能达到90nm制程,且主要用于IC的后道封装和面板领域。SMEE作为国内最领先的光刻机研发企业,有非常多的光刻工艺人才,在产业链还未成熟的国内光刻机行业中,人才优势是主要核心竞争力。作为芯片行业的上游,目前国内还未出现能制造出能满足芯片行业需求的企业,而有着众多光刻工艺人才的SMEE,自然而然就成为最有竞争优势的企业。

2020年6月初,上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机,国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。

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